半导体产品车间废气烟雾净化达标排放

　　山东某电子厂通过车间废气净化工艺找到我们，需要我们对其工厂车间的粉尘烟雾做出有效处理。

　　　半导体主要成分：半导体行业废气主要为有机废气和酸碱废气两类。有机类有：非甲烷总烃、氮氧化物、二氧化硫等；酸碱类有：氨气、硫酸雾、氟化物、氯化物、氯气等。

　　半导体酸碱性废气：

　　工艺流程： 酸/碱性废气→酸/碱式洗涤塔→离心风机→烟囱（达标排放）

　　半导体有机类废气VOCs

　　收集废气→沸石转轮吸附装置→TO直燃式焚烧炉

　　同时整套装置安q、可靠、无任何二次污染。

　　由于半导体行业对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。

　　半导体废气具有排风量大、浓度低的特点。针对电子行业的废气排放特点，采用相应的废气末端治理技术，主要还是吸附法或焚烧法。

　　吸附法：废气处理设备是活性炭吸附脱附+催化燃烧CO设备，活性炭属非极性吸附剂，对非极性化合物有较强的吸附能力，一般可净化低浓度VOCs；

　　燃烧法：废气处理设备是沸石转轮+蓄热式焚烧炉RTO设备，由废气旋转轮的上游侧进入浓缩转轮的吸附区，使VOCs得到浓缩，在经脱附燃烧处理。

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　　小知识：

　　目前没有专门关于半导体行业的标准，一切依据《中华人民共和国环境保护法》（2015-01-01）《环境空气质量标准》（GB3095-2012）《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）等相关文件。

　　江苏省:《半导体行业污染物排放标准》(DB32/3747-2020)

　　地方方面电子工业VOCs排放标准：

　　北京《大气污染物综合环保标准》（DB11/501-2007）中相关规定半导体及电子设备制作VOCs的限制值主导产品为50mg/m3,新创建企业为20mg/m3.

　　天津《工业企业挥发性有机化合物排出控制标准》（DB12/524-2014）。相关规定电子工业VOCs高允许排出浓度值为80mg/m3。

　　上海《半导体行业污染物环保标准》（DB31/374-2006）。相关规定VOCs允许排出浓度值为100mg/m3。

　　2017年广东《电子工业挥发性有机物环保标准》。相关规定VOCs允许排出浓度值为30mg/m3.

　　电子产品车间粉尘烟雾净化达标排放